FA Device Solutions for Semiconductor Manufacturing
[前工程]
CMP
CMP装置は、ウェーハ表面を研磨し、微細な凹凸を平坦化する装置です。安定した研磨を行うため、
ウェーハの位置や有無に加え、研磨パッドや機構部の状態を正確に検出することが求められます。

アプリケーション
研磨中のウェーハ外れ検出

課 題
研磨中にウェーハが研磨パッドから外れた際、すばやく検出する必要があります。
ご提案
同軸反射型レーザセンサ LS-H201は、従来品比約60%に小型化し、狭いスペースにも設置可能。長距離でも小スポットを実現し、ウェーハのわずかな位置ずれを安定して検出します。
・スポットサイズ約φ2mm以下(距離300mm)
・FDA規則に準拠 クラス1レーザ。
関連製品
洗浄プロセス耐薬ファイバ

課 題
薬液のかかる環境下でウェーハを検出したい。
ご提案
耐薬品ファイバは、メタルレスのフルプロテクト構造とIP68Gの保護構造を採用。豊富なラインアップで、さまざまな薬液環境での検出に対応します。
関連製品
稼働部の動作確認

課題
機構部の動作状態を監視し、経年劣化による変化を検知したい。
ご提案
HG-C1050は測定中心距離50 mm、繰返し精度30 μmで機構部の動きを高精度に測定。アルミダイカストケースの採用により、ケースの歪みや温度変化による測定への影響を抑えます。
関連製品
ウェーハの吸着確認

課 題
ウェーハの搬送・加工時の落下や位置ずれを防ぐため、ウェーハが正しく吸着されていることを確認する必要があります。
ご提案
デジタル圧力センサで吸着時の真空圧を監視。吸着不足や吸着異常を検出し、ウェーハの安定した保持をサポートします。
関連製品
センタリング工程のウェーハの着座確認

課 題
ウェーハの浮きや位置ずれは、センタリング精度の低下や搬送ミスにつながるため、ステージへの正しい着座を確認する必要があります。
ご提案
小型センサでウェーハの着座状態を検出。位置ずれや浮きを捉え、安定したセンタリングと搬送をサポートします。
関連製品
薬液・スラリー・純水
液面検出

課 題
気泡や液だまりの影響を抑えながら、薬液・スラリー・純水の液面を安定して検出したい。
ご提案
接液式の液面レベルセンサで安定検出。保護チューブは切断・延長が可能で設置しやすく、フルプロテクト構造により、さまざまな薬液環境で使用できます。
関連製品
- FD-HF40Y 〉
- FD-F41 〉
- BE-A Series 〉
- EX-F1 Series 〉
- FT-F93 〉
ドレンパン漏液検出(水・薬液)

課 題
従来の1出力タイプでは、わずかな初期漏液でも装置が停止し、チョコ停につながることがあります。設備の稼働率を維持しながら、異常漏液を検知する必要があります。
ご提案
SQ4なら、初期漏液(警報)と異常漏液(緊急停止)を2段階で検知。生産性と安全性の両立に加え、センサの設置忘れや取り付け不備などの異常も検知できます。
関連製品
タンクバルブ開閉確認

課 題
高いスループット化に伴いIPAによる蒸気乾燥など、高温環境が求められる工程では、一般的な光電センサの使用が難しい場合があります。
ご提案
ヘッド部に電気部品を内蔵しないコの字型ファイバセンサにより、高温環境でのバルブ開閉検出に対応。耐熱性が求められる環境やノイズ環境にも適しています。
関連製品
メンテナンス扉の安全ドアスイッチ

課 題
メンテナンスや調整時に扉を開けると、作業者が可動部などの危険源に接近する可能性があるため、扉の開閉を検知して危険な動作を防ぐ必要があります。
ご提案
非接触式安全ドアスイッチ SG-Pで扉の開閉状態を検知。扉の位置ずれにも対応し、状態表示によりメンテナンス性にも優れた安全対策を実現します。
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